‌IZO靶材主要用于电子显示、太阳能电池、医疗科技等领域。‌ IZO靶材，即氧化铟锌靶材，因其优异的电学、磁学和光学性质，在高科技领域发挥着重要作用‌。 除了上述主要应用领域，IZO靶材还应用于科研实验、溅射镀膜等高科技领域，成为推动科技进步的关键材料之一‌。

Cu靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铜材料经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。由于高纯铜特别是超高纯铜具有许多优良的特性，已广泛应用于电子、通信、超导、航天等尖端领域。

‌铝靶材是一种广泛应用于高科技领域的重要材料，主要用于通过物理气相沉积（PVD）等方法制备薄膜。‌ 铝靶材具有低熔点、良好的导电性和热导性，以及化学稳定性，这些特性使其在多个行业中得到应用‌

‌ITO靶材的主要用途包括平板显示器电极、触控面板触点、节能汽车和建筑窗玻璃镀膜、光电器件、太阳能电池等。‌‌ITO靶材，即氧化铟锡靶材，是一种具有高度导电性和光学透明性的材料，广泛应用于各种电子和光电设备中。

‌IGZO（氧化铟镓锌）的主要用途包括显示驱动、传感应用和类脑系统三大类。IGZO在显示驱动领域的应用非常广泛，主要用于LCD、OLED和柔性显示。IGZO薄膜晶体管（TFT）技术能够提高显示面板的分辨率，降低能耗，并具有快速响应时间。此外，IGZO还可以用于制造高性能TFT，进一步推动超高清显示面板的发展‌。IGZO薄膜可以通过射频磁控溅射等方法制备，其元素比例（In:Ga）与靶材保持一致。通过优化制备条件，如控制溅射功率和退火温度，可以获得高性能的IGZO薄膜。IGZO薄膜具有高透过率、高电子迁移率和宽光学带隙等特性，这些特性使其在电子器件中表现出色‌。

Ti靶材主要用于薄膜材料的制备，通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等技术在基体表面沉积具有特定功能的薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件和各类涂层中发挥着关键作用，例如在眼镜镀膜、照相机镜头元件、望远镜、显微镜等精密仪器中，钛靶材被用于制造具有抗反射、消耗磨损和氧化防护等特性的薄膜‌。钛靶材在眼镜镀膜、照相机镜头元件、望远镜、显微镜等精密仪器中有着重要应用，能够提供抗反射、消耗磨损和氧化防护等特性‌。磁控溅射技术是制备薄膜材料的关键技术之一，高纯钛溅射靶材在磁控溅射工艺中具有重要应用。钛靶材的纯度、微观组织、焊接性能和尺寸精度等指标对不同应用有不同要求。例如，集成电路用钛靶材的纯度要求高达99.995%，而装饰镀膜用钛靶材的纯度要求较低‌。

银靶材是一种广泛应用于多个行业的关键材料。银靶材被用于太阳能电池背面镀上一层反射涂层，这样可以提高电池的光伏转换效率，减少因反射而损失的热量。银靶材因其优良的导电性和热导性能，被用来提高电子器件的性能和稳定性。它在电子电路保护和测试设备中使用，用于制造电路连接、外部电极以及焊接和连接电子器件的内部分布。银靶材还具有良好的抗菌性能，可以用于制造人工关节、牙科材料等医疗器械，从而提升其性能和质量。银靶材在航空航天行业中也有广泛应用，因为它具有耐高温和耐腐蚀的特性，可以提高航空航天器的性能和可靠性。