NiO

NiO靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等薄膜生长技术中的材料。这些技术在制造半导体器件、光电设备及各类高性能薄膜中发挥着核心作用。氧化镍靶材具有高密度，可以为制备出高质量的功能材料，如电池、光电器件等提供必要的原材料。

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产品描述

参数

靶材名称	材料纯度（≥%）	成分比例（wt%）	相对密度（≥%）	生产工艺	靶材形制（mm）	规格尺寸（按需定制）（mm）
NiO	99.99	Cu、Mg、Ag、Li掺杂	95	烧结		按客户需求定制

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