‌Sn靶材‌，即锡靶材，主要用于薄膜制备领域，特别是在磁控溅射和电子束蒸发等薄膜制备技术中。锡靶材的优势包括高纯度、良好的塑性、易于形成化合物以及出色的附着性，这使得它在多种薄膜制备中表现出色‌

‌TZO靶材‌主要用于真空镀膜和磁控溅射，其用途包括但不限于以下几个方面： ‌平板显示器‌：TZO靶材可以用于制造平板显示器，提供所需的导电性和透明度，适用于各种显示技术，如LCD和OLED‌。在半导体工业中，TZO靶材可用于制造电子元件，如光电二极管、光电晶体管、光电接收器和发射器等‌.TZO靶材在光伏电池制造中也有应用，能够提高电池的转换效率和稳定性‌.TZO靶材还可以用于制造记录媒体，如光盘和磁带等‌。TZO靶材的主要成分是氧化锌锡，其密度为5.66.3g/cm³，电阻率为0.10.5Ω.cm，主成分为Zn2SnO4，通常通过热喷涂方法制备‌。

‌AZO靶材是一种锌铝氧化物功能陶瓷材料，主要用于磁控溅射制备AZO透明导电薄膜。‌ AZO靶材以氧化锌为主并掺杂少量氧化铝，具有优异的导电性能和透明特性，被广泛应用于薄膜太阳能电池的电极和光电器件等领域‌。

‌NiCr靶材‌主要用于制造电阻器，特别是在集成电路中制造薄膜电阻器。NiCr合金靶材由镍和铬组成，通常还包含少量的铁和其他金属元素。这种合金具有高电阻率和较高的熔点，使其成为制造电阻器的理想材料之一‌

氧化铌是一种具有显著特性的高性能材料，其独特的化学和物理性质使其在多个高科技领域中发挥关键作用。相比于其他氧化物，氧化铌在化学稳定性、高温稳定性以及光学和电学性能方面展现出更优异的表现。例如，相比氧化锌（ZnO）和二氧化钛（TiO2），氧化铌提供了更高的折射率和更好的电化学稳定性。在同类材料中，氧化铌因其独特的综合性能而脱颖而出，尤其是在需要耐高温、化学稳定性以及高级光电性能的应用领域。

‌SiAl靶材主要用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜系、Low-E玻璃膜系、半导体电子、TFT、平面显示和触摸屏玻璃。‌SiAl靶材在低辐射玻璃和AR涂层中也有广泛应用‌。此外，高纯度的SiAl靶材通过等离子体加热到熔融或半熔融状态，并高速冲击背管表面形成致密涂层，适用于玻璃镀膜材料‌，广泛应用于半导体行业和电子封装‌。也可用于制作各种薄膜，特别适用于光学和电子领域‌。

锌铝合金机械综合性能接近黄铜，可用较高的切削速度和较深的吃刀量进行切削加工被广泛应用于金属小零件。机加工性能优异表面处理效果佳： 适应多种电镀工艺，镀铜、镀镍、铬、锡、银以及三元合金等均可，成品件无麻点、气泡，表面光洁度与铜件镀成品是十分相近，中性盐雾试验48小时无明显腐蚀现象，电镀成品率可达98%以上。导电率好,性价比高. 材料价格仅为HPb59-1的60%左右，材料比重仅为HPb59-1的70%左右。使用快削挤压锌铝合金的材料，同一个成品工件成本仅相当于铅黄铜成本的40%。在09年恶劣的经济环境中，大面积推广应用快削挤压锌铝合金，将极大缓解企业的资金压力，提升产品综合竞争力。

‌Si靶材主要用于微电子和光伏领域‌。硅靶材在微电子领域中应用极为广泛，主要用于制造集成电路、芯片等电子元件。在光伏领域，硅靶材用于制造太阳能电池板，提高光电转换效率‌。硅靶材的具体应用领域包括：薄膜太阳能电池‌：硅靶材用于制造薄膜太阳能电池，提高光电转换效率‌。‌半导体电子‌：硅靶材在半导体电子行业中也有重要应用，用于制造各种半导体器件‌。此外，硅靶材还具有高纯度的特点，纯度可达99.99%，常用于磁控溅射和电子束镀膜等工艺中‌。

‌锌锡合金‌是一种由锌和锡元素混合形成的合金，具有优异的抗腐蚀性和良好的可加工性，广泛应用于多个领域。锌锡合金通过合理的配比和控制制备工艺，可以在抗腐蚀性、耐磨性、强度、导电性和热导性等方面达到最优平衡。相较于纯锌或纯锡材料，锌锡合金更具备广泛的应用场景。其抗腐蚀性优异，表面易于形成致密的氧化物层，有效地阻止氧气的侵入，从而提高材料的耐腐蚀性。此外，锌锡合金具有良好的可加工性，可以通过铸造、锻造、挤压等多种工艺进行加工，满足各种复杂形状和结构的需求‌