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ITO
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产品描述
参数
ITO靶材
• 纯度 |
≥ 99.99% |
• 密度 |
≥ 7.13g/cm³ |
• 电阻率 |
≤ 1.7x10-4Ωcm |
• 抗压强度 |
≥ 150MPa |
• 晶粒尺寸 |
≤ 5μm |
• 面粗糙度 (Ra) |
≤ 0.6μm |
单片尺寸
• 长度 |
平面: 600--1400mm |
旋转: 300-1200mm |
• 厚度 |
平面: 6-15mm |
旋转: 6-15mm(ID 135mm) |
• 粘接率 |
平面: ≥ 98.5% |
旋转: ≥ 98.5% |
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Sn
Sn靶材,即锡靶材,主要用于薄膜制备领域,特别是在磁控溅射和电子束蒸发等薄膜制备技术中。锡靶材的优势包括高纯度、良好的塑性、易于形成化合物以及出色的附着性,这使得它在多种薄膜制备中表现出色

TZO
TZO靶材主要用于真空镀膜和磁控溅射,其用途包括但不限于以下几个方面:
平板显示器:TZO靶材可以用于制造平板显示器,提供所需的导电性和透明度,适用于各种显示技术,如LCD和OLED。在半导体工业中,TZO靶材可用于制造电子元件,如光电二极管、光电晶体管、光电接收器和发射器等.TZO靶材在光伏电池制造中也有应用,能够提高电池的转换效率和稳定性.TZO靶材还可以用于制造记录媒体,如光盘和磁带等。TZO靶材的主要成分是氧化锌锡,其密度为5.66.3g/cm³,电阻率为0.10.5Ω.cm,主成分为Zn2SnO4,通常通过热喷涂方法制备。
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