Ti靶材主要用于薄膜材料的制备，通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等技术在基体表面沉积具有特定功能的薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件和各类涂层中发挥着关键作用，例如在眼镜镀膜、照相机镜头元件、望远镜、显微镜等精密仪器中，钛靶材被用于制造具有抗反射、消耗磨损和氧化防护等特性的薄膜‌。钛靶材在眼镜镀膜、照相机镜头元件、望远镜、显微镜等精密仪器中有着重要应用，能够提供抗反射、消耗磨损和氧化防护等特性‌。磁控溅射技术是制备薄膜材料的关键技术之一，高纯钛溅射靶材在磁控溅射工艺中具有重要应用。钛靶材的纯度、微观组织、焊接性能和尺寸精度等指标对不同应用有不同要求。例如，集成电路用钛靶材的纯度要求高达99.995%，而装饰镀膜用钛靶材的纯度要求较低‌。